没有光刻机,日本厂商依然笑傲EUV江湖

极紫外光(EUV)光刻机是新一代芯片生产设备的显学,对一年超过565亿美元(约台币1.65兆元)的先进制程芯片设备市场产生莫大影响。尽管荷兰ASML是当今唯一有能力量产EUV光刻机设备的公司,但日本芯片设备制造商间的竞争却越演越烈,他们争的是要当EUV周边设备的全球龙头。
  
  日本经济新闻报导,日本企业正强化其在EUV周边设备,比如检测与光源等的实力。东京电子在明年3月31日为止的2020会计年度,提拨1,350亿日圆(约台币376亿元)作为研究经费,该规模堪称空前。东京电子是全球第三大芯片机械制造商,总裁河合利树(ToshikiKawai)说,「如果EUV广泛使用,对高阶设备的需求也将水涨船高」。
  
  东京电子投入逾10%销售额研发
  
  东京电子以「涂布显影设备(Coater/Developer)」知名,该设备以特殊化学液体涂布于硅晶圆,使之显影。而在应用于EUV设备上的涂布显影工具市场,其市占率已达百分之百。尽管如此,该公司仍将自今年合并销售额(预计达1.28兆日圆)中拨款逾10%在研发上,以在应用日广的EUV技术上,巩固其领先地位。
  
  生产检验设备的Lasertec则大幅受惠于EUV的发展。比如若光罩出现瑕疵,芯片生产的不良率就会增加。而从去年7月到今年3月,该公司拿下658亿日圆(约台币183亿元)支援EUV的测试设备订单,业绩较前一年上扬2.2倍。该设备预计将占雷泰光电全年订单的三分之二。
  
  报导说日本公司之间的竞争态势越来越激烈。在以电子束于光罩上描绘电路图的设备市场上,东芝集团旗下的NuFlareTechnology紧紧追赶东京电子显微镜制造商JEOL与奥地利IMSNanofabrication的联盟。他们的竞争聚焦在可释放26万束雷射的「多波束」(multibeam)技术之研发。
  
  小松研发新光源零组件可望重返荣耀
  
  今年一月阻绝日本玻璃光学大厂Hoya对纽富来的恶意并购后,全球最大硬碟玻璃碟片制造商东芝巩固对纽富来的控制,额外派遣25名工程师与主管进驻该单位,以期在2020会计年度出货可支援EUV的新一代循迹装置。
  
  在EUV问世前,小松制作所(Gigaphoton)是光刻机光源的全球1两大制造商之一,在竞争对手被ASML收购后,其在业界风光不再。然而,这家总部设在栃木县小山市的企业有望重返荣耀。在ASML2022年预计推出新一代EUV设备之前,小松制作所希望研发出新的光源零组件,以夺回失去的市占率。
  
  半导体厂竞争激烈造设备商新商机
  
  日经报导,三星电子与台积电等全球半导体制造龙头在先进制程芯片上趋于激烈的竞争,也促使芯片设备制造商致力开发可支援EUV的设备。鉴于应用在5G技术的高阶芯片需求量日增,三星电子与台积电正争夺每台造价逾200亿日圆(约台币55.7亿元)的ASML光刻机。
  
  该激烈的竞争也为其他芯片产品制造商创造新商机。根据国际半导体产业协会(SEMI)与日本半导体制造装置协会的资料,过去两年日本制的半导体生产设备维持在全球市占率30%,2019年站上31.3%。
  
  尼康(Nikon)与佳能(Canon)曾经垄断光刻机全球市场,但在败阵于ASML后,就对EUV设备的研发裹足不前。在导体体设备产业上,赢者全拿的趋势越来越强劲,由EUV技术催生的设备世代更迭,势必将加速半导体设备制造商的优胜劣汰。

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